Беговая дорожка Oxygen Plasma III LC HRC

Артикул товара: ASK11359



Беговая дорожка Oxygen Plasma III LC HRC ASK11359

Успей купить Товар дня Нажмите, чтобы увеличить изображение

(0)

 Поделиться

124990 (Актуальная цена загружается...)

Наличие: есть

Как заказать

Доставка

Доставка

Самовывоз в Москве
Из магазинов: стоимость 0 рублей (бесплатно) согласно времени работы магазинов

Пункты выдачи (Boxberry, СДЭК и др. ТК)
Московская область: стоимость от 350 руб., срок доставки 1-3 дня
Санкт-Петербург и ЛО: стоимость от 350 руб. (срок доставки 2-4 дня)
Во всех городах России - от 350 руб (срок доставки 2-5 дней)
В том числе:
В Екатеринбурге
В Казани
В Краснодаре
В Нижнем Новгороде
В Новосибирске
В Ставрополе
В Уфе

Курьером
Москва: стоимость: 300 руб., срок доставки 0-1 дней
Москва: стоимость: 0 руб.,(электротранспорт, гребные тренажеры)* срок доставки 0-1 дней
Санкт-Петербург и ЛО: стоимость: от 300 руб, срок доставки 2-4 дня
Города России - от 500 руб (срок доставки 2-5 дней)

Почтой
Почтой России: стоимость от 500 руб.(срок доставки 5-12 дней)
Смотрите подробные тарифы на доставку в разделе Доставка

Скрыть информацию о доставке

Описание

Гарантия месяцев: 60
Тип беговой дорожки: Электрические
Использование: полупрофессиональное
Размеры в рабочем состоянии (Д х Ш х В): 194*87*141 см
Размеры сложенном виде (Д х Ш х В): 123*87*156 см
Вес: 89 кг
Размер упаковки (Д х Ш х В): 200*93*42 см
Вес в упаковке: 103
Бренд: Oxygen
Происхождение марки: Германия
Страна-производитель: КНР
Складная конструкция: да
Двигатель л.с.: 3.5 л.с. Fuji Electric (постоянный ток)
Пиковая мощность двигателя: 6.3 л.с.
Регулировка угла наклона: Электронная
Ширина бегового полотна, см: 50 см
Длина бегового полотна, см: 142 см
Максимальная скорость, км/ч: 20 км/ч
Минимальная скорость, км/ч: 1 км/ч
Максимальный угол наклона полотна: 20 %
Минимальный угол наклона полотна: 0 %
Толщина деки: 24 мм
Система амортизации: 4 динамические подушки (dualFLEX™)
Измерение пульса: сенсоры + кардиопояс (опционально)
Максимальный вес пользователя, кг: 160 кг
Монитор: LСD
Отображение времени тренировки: да
Отображение текущей скорости: да
Отображение расхода калорий: да
Отображение пульса: да
Отображение угла наклона: да
Мультимедиа: воспроизведение аудио файлов
Наличие программ: да
Количество программ тренировки: 31
Встроенные программы: ручной режим, интервалы, "качели", снижение веса, сжигание жира 1-3, аэробная, энергетик, фартлек, выносливость, финишер, заминка, подъем, холм, гора, двойная вершина, склон, спуск, пересеченная местность, долина, лощина
Пульсозависимые программы: 2
Пользовательские программы: 4
Оценка Body Fat: да
Транспортировочные ролики: да
Динамики: да

Техническое описание

Сверхмощный японский мотор на 3,5 л. с. и усиленная рама позволяют отнести тренажер Oxygen PLASMA III LC HRC к категории полукоммерческих — для пользователей весом до 160 кг.
Размеры 142×50 см дают возможность чувствовать себя на беговом полотне свободно атлетам любой комплекции.
Ключевой компонент системы амортизации — парафинированная двойная дека 22 мм толщиной, которая вместе с четырьмя динамическими подушками обеспечивает жесткость на уровне средне-мягкой.
Гидравлическая система складывания упрощает манипуляции с тренажером и делает их более безопасными.

Особенности программного пакета:

Цветной дисплей 6,5 дюймов отображает программные профили в рамках одного из 24 предустановленных режимов.
Беговая дорожка Oxygen PLASMA III LC HRC рассчитана и на самостоятельную регулировку в пользовательских режимах.
Пульсозависимые программы и беспроводной приемник позволяют максимально точно контролировать работу сердечно-сосудистой системы.
В модели широко реализована и мультимедийная функция: пользователь может прослушивать музыку через МР-3-плеер, смартфон или USB-накопитель.

Отличия модели от Oxygen PLASMA III LC TFT HRC

Наличие функции «оценка Body Fat».

Преимущество в этой ценовой категории

Максимальные динамические параметры — скорость 20 км/час и угол наклона 20%.
Максимально долговечная эксплуатация даже в интенсивном режиме благодаря использованию высококачественных материалов при производстве как базовых, так и электронных компонентов.